VCD-G4.5型装备

       面向G4.5中尺寸基板或中试线开发的真空干燥设备，其核心功能是：提供可控真空环境，使得薄膜溶液在设备内均匀干燥、固化、成膜，该设备性能直接决定最终薄膜形貌、电学性能和器件量产良率。

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VCD-G6型装备

      面向G6大尺寸基板或量产产线定制开发的真空干燥设备，其核心功能是：在大尺寸腔体内提供可控真空环境，使得薄膜溶液在设备内均匀干燥、固化、成膜，该设备性能直接决定量产基板薄膜形貌、电学性能和器件量产良率。

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VCD-G8.6型装备

针对G8.6量产产线定制开发的超大尺寸真空干燥设备，其核心功能是：在密封腔体内为超大尺寸基板提供智能化可控真空环境，使得溶液化薄膜在设备内均匀干燥、固化、成膜，该设备性能直接决定量产基板薄膜形貌、电学性能和产线生产节拍、器件良率。

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