Technology

产品技术

VCD-G4.5型装备

       面向G4.5中尺寸基板或中试线开发的真空干燥设备,其核心功能是:提供可控真空环境,使得薄膜溶液在设备内均匀干燥、固化、成膜,该设备性能直接决定最终薄膜形貌、电学性能和器件量产良率。

电话:027-63495836
邮箱:sales@whnite.com
技术参数 装备技术优势 更多产品

技术参数

  • ●真空曲线:抽速自动可调可控,具备自动多段稳压抽速
  • ●压力控制:(10Pa~100kPa压力范围内:稳压精度<±5%)
  • ●温度控制:-10~80℃,均匀性<±1.5℃
  • ●基板尺寸:460x730mm,730x920mm
  • ●抽真空速率:10Pa<30s
  • ●真空底压:<1x10-4 pa

装备技术优势

  • 腔体:采用加强加厚SUS材质,结合力学仿真优化了整体结构,腔体整体强度高,刚性好,放气率低。 超净设备:洁净度优于ISO3级,满足显示面板严苛洁净要求。
  • 具备基板位置高度可设,工艺温度可调,抽速可调,压力可控可做多段抽速曲线工艺,适合不同材料不同 工艺生产需求,具备针对高沸点溶剂去除特殊设计。
  • 采用特殊匀流气场结构设计,结合流场仿真优化迭代,抽气均匀,成膜均匀性优,膜形质量好。

产品应用