2021年10月28日，武汉光博会在中国光谷科技会展中心举行2021未来显示技术及制造装备高峰论坛，诸多光电子技术领域专家学者参与进行学术交流，其中包括华中科技大学机械学院院长尹周平教授、台湾交通大学显示研究所陈金鑫教授、武汉光电研究中心王磊教授、郑州大学物理学院宋继忠教授等。

    我司联合创始人、董事尹周平特邀为开场嘉宾，首先分享了柔性电子制造技术与应用，针对当前喷印技术存在的高分辨率结构制备、高粘性墨液兼容性难点，及柔性电子存在的变形极限和尺度极限挑战，提出了新型喷印技术解决思路。尹院长还表示，将面向柔性显示、表皮电子、柔性能源、智能蒙皮等重大应用领域，开展多学科交叉基础研究，实现“基础研究-关键应用-重大装备-示范应用”的系统性突破。

    随后，我司陈建魁总经理携武汉国创科自主研发的喷墨打印方案全面展示了新型显示器件喷墨印刷制造技术与装备成果，分析了我国新型显示产业形式、竞争形式，阐述了我司技术基础及喷墨装备产业化的推进。强调在新型显示装备产业化的道路上技术链、产业链、人才链、资金链、政策链缺一不可，国创科将在面向新型显示产业国家战略需求下，攻克“卡脖子”技术和核心装备，培育我国新型显示装备国产化标杆企业。

    我司代表发言结束后，受到论坛中在座嘉宾的热烈响应，不少专家、厂商、投资平台对国创科的显示技术和解决方案表示出极大的兴趣，纷纷表示愿在近期到我司考察、展开进一步合作。