E/P产品线
基板尺寸：可定制
墨滴体积：电流体fL级/压电:3.5/6/10pL(可选)
运动精度：≤±3μm
墨滴体积控制：±5%
E喷印模块最小膜厚：50nm
材料粘度：E喷印模块1-20000cps
PR量产型装备
基板尺寸：可定制
墨滴体积：2.4/3.5/6/13pL(可选配)
打印精度：≤±7.5μm
运动精度：≤±2μm
墨滴体积控制：±5％
洁净度等级：lSO3
EH产品线
基板尺寸：可定制
墨滴体积：fL级
定位精度：≤±5μm
重定位精度：≤±3μm
打印频率：1000Hz
高压供电：0-±5000V
EB产品线
基板尺寸：可定制
墨滴体积：fL级
定位精度：≤±10μm
重定位精度：≤±5μm
X/Y轴打印速度：50mm/s
打印频率：500Hz
EP产品线
基板尺寸：可定制
墨滴体积：fL级
定位精度：≤±3μm
重定位精度：≤±1μm
打印频率：1000Hz
高压供电：0-±5000V
EF产品线
基板尺寸：可定制
点/线尺寸：1~20μm
点/线厚度：0.5~5μm
打印精度：≤±2μm
运动精度：≤±1μm
喷嘴对位精度：≤1μm
AOI产品线
基板尺寸：可定制
缺陷检测尺寸：3μm(可定制)
复检相机：5~20倍可选配
运动精度：≤±3μm
重复定位精度：≤±1μm
对焦及复检测：支持自动对焦及自动复检功能
LM产品线
基板尺寸：可定制
贴合方式：真空贴合
贴合精度：±3μm(可定制)
压力精度：±0.01Mpa
水氧含量控制：≤1ppm(可选)
箱内洁净度控制：ISO3(可选)
PTE中试型装备
基板尺寸：可定制
墨滴体积：3.5/6/13pL，可选配
打印精度：≤±10μm
运动精度：≤±3μm
膜厚范围：1~20μm
膜厚均一性：≥95%
PB产品线
基板尺寸：可定制
墨滴体积：10pL，可选配
打印精度：≤±15μm
运动精度：≤±5μm
墨滴体积控制：±5%
洁净度等级：lSO3
公司介绍
武汉国创科光电装备有限公司坐落于武汉·光谷，以国家“卡脖子”高端装备为使命，面向新型显示领域开发大面积、高效率、高精度OLED、QLED、MicroLED等喷印制造工艺、技术与成套装备。推动行业技术变革，打造新型显示高端装备标杆企业。
Wuhan National Innovation Technology Optoelectronics Equipment Co., Ltd. is located in Wuhan Optical Valley, with the mission of solving the stranglehold problem of high-end equipment. It aims to develop large-area, high-efficiency, high-precision OLED, QLED, MicroLED and other jet printing manufacturing processes, technologies and equipments in the novel display field. Our goal is to promote the technological transformation of the industry and build a benchmark enterprise for high-end novel display manufacturing equipments.
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0 家
国内喷墨印刷装备领军企业
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0 +万元
注册资本
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0 m2+
占地面积
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0 年+
技术沉淀
